扫码手机阅读

学霸从改变开始

作者:一白化贝 | 分类:都市 | 字数:500万

第245章 摇人帮忙(为阿歷加更3)

书名:学霸从改变开始 作者:一白化贝 字数:2530 更新时间:2024-10-10 15:35:49

第245章 摇人帮忙(为阿历加更3)

就在沈靖内心发出万般感慨的时候,陈舟回来了。

还带着一个瘦高个,戴眼镜的男生。

“学长,我来介绍一下。”陈舟指了指身旁的男生,介绍道,“这是我高中同桌张一凡,华国科学技术大学化学系的,被我喊来帮忙了。”

说完,陈舟又指了指沈靖:“这是这次和我一起来庐州参加课题的沈靖学长,和我一样,燕大数学系的。”

“你好。”张一凡和沈靖互相问了声好。

“一凡,你来这边。”陈舟把椅子搬好,放在桌子边,然后说道,“你下午下载的文献资料,去掉前面的47篇,后面的那些文献里具体的工艺资料,就靠你帮我整理了。”

“没问题。”张一凡点点头,但随即想到不对劲,这去掉47篇的话,还剩下……

???

陈舟笑看着张一凡说道:“我相信你可以的!”

他打算先全面一点,再寻求突破。

沈靖不由得看了两人一眼,陈舟和张一凡都是认真的在看着文献,全然不像刚才还说说笑笑的模样。

这样虽然没有数学和物理学的系统,但是效率却很高。

化学和生物这两门更偏向于实验和应用的学科,陈舟打算从实验和应用入手。

所以,有了化学学科等级的加成,陈舟疯狂的汲取着相关的化学知识。

“R=0.97~1.0。”

把HFCVD法的文献看了三篇后,陈舟觉得大致的思路都差不多,便不再这个方法再做纠缠。

只有在R=0.7~1.0 区域时,才能生长成金刚石。

他却不知道,张一凡的学习习惯,基本上都是在高中复读时,坐在陈舟身边,被那股压力给压出来的。

这篇文献对于HFCVD法制备金刚石膜的介绍比较全面。

不止是张一凡,陈舟周边的同学,或多或少的都受到了不少的影响。

这也得益于他系统学科升级所提供的加成。

在氢原子作用下,就会在衬底上沉积而形成金刚石。

因为效率是提高了,但是金刚石薄膜的质量,还是太低。

所以接到电话后,张一凡也二话没说,花了一下午的时间,帮陈舟查文献。

陈舟坐回桌子前,边翻文献,边说道:“嗯,下个月15号,关于冰雹猜想的证明,做个报告。”

虽然这种方法是CVD法的鼻祖,但是现在使用的仍然非常普遍,而且发展成沉积金刚石薄膜较为成熟的方法之一。

再通过查资料去弥补那个未知。

但是,改良方法,陈舟觉得可以一试。

在来之前,他把化学也悄悄的升到了Lv2,以备不时之需。

这种方法,虽然简单,但是沉积效率很低,比四十三所现在用的方法要低很多。

张一凡不置可否,他估计要不是因为要查文献资料,陈舟大概率是在临走前才会打电话说一下。

陈舟说道:“我在去吴博士办公室前,给他打了电话,让他帮忙查找的文献资料。毕竟有些文献,在学校图书馆才能下。”

沈靖看着张一凡,然后凑到陈舟身边,轻声问道:“你什么时候让他帮你下载的文献?”

陈舟把主要的整理任务分别交给了张一凡和沈靖,这也让他有了时间,可以更多的去研究金刚石薄膜的整个制备工艺。

燃烧的火焰分三个区,除了内焰和外焰外,还有一层还原焰。

将衬底放置在火焰的还原焰区域,生成金刚石。

金刚石薄膜的制备方法有一个变迁。

随即,两人不再交谈,各自忙着手中的工作。

“可以啊破釜,我本来还以为网上消息不可信,没想到是真的!”张一凡很是为陈舟高兴。

在陈舟改变的同时,他们也在默默的改变着。

沈靖恍然,随即深深的看了陈舟一眼。

其他区域都不利于金刚石的生长。

这种方法最早也是由日国学者提出的,只不过是在大西洋彼岸实验室得到证实的。

而且看这架势,应该是时间比较紧的任务。

从上世纪50 年代的高温高压,到80年代初日国科学家首次使用的CVD法,再到今天的多种合成方法。

而且很适用于现在的陈舟。

这种方法的关键就是乙炔和氧气的混合比例R。

“这进入状态也太快了吧?”沈靖暗自嘀咕一声。

【热丝CVD法(HFCVD)制备金刚石膜】

说是多种合成方法,但其实也都是基于CVD法的基础上,进行改进的。

只是令他十分不解的是,陈舟这家伙居然要那么多文献资料……

陈舟笑着说道:“我这不才刚到吗?这刚到就找你,还不够意思吗?”

虽然文献中还提了两种改良的方法,但是陈舟同样不认同。

听到两人的话,张一凡笑着道:“我还以为陈舟突然打电话给我什么事呢,结果是让我帮忙查文献。我就说你这次来庐州,怎么也不提前打声招呼呢?”

陈舟看文献的速度很快,即使是一边看一边记的情况,他的效率也远远超过了其他人。

这种方法需要在衬底上方设置金属热丝,常用的像钨丝、钽丝。

另一种是电子助进的HFCVD法,通过给衬底加大约150V的偏压,实现沉积速率的提升。

借助学科等级的加成,以高效的学习,从实验和应用中去找未知。

而且,陈舟并不打算一开始就针对MPCVD法去研究。

和学数学物理不同的是,陈舟不打算用同样的方法去学化学和生物。

这玩意,难道还多多益善吗?

对于金刚石半导体材料和器件的研究,显然不适用。

陈舟微微皱眉看着写下的这个区间。

陈舟笑了笑,督促道:“你赶紧的干活,回头请你吃大餐!晚上你还得回学校,不能太晚。”

转而,他开始看下一种方法,燃烧火焰沉积法(Flame Deposition)。

再将含碳气体高温加热到2000~2200℃,进行分解,形成活性粒子。

张一凡:“……”

“听说你要去国外做学术报告了?”张一凡想到自己在网上看到的消息,便问陈舟。

不仅如此,而且工艺稳定性差,容易造成污染。

只有完全了解,才能改进制备方法。

不过对此他也理解,这又不是什么假期,是有任务来的。

一种是反应气体分送的HFCVD法,也就是把碳源气体和氢气由热丝的下方和上方分别送入。

“成交!”张一凡笑道。

这种方法主要就是将碳源气和氧气混合,在大气中燃烧。

他从文献中看到,当R=0.97~1.0 时,这种方法可以制备出透明的光学级金刚石薄膜。

习惯性的拿笔点了点草稿纸,陈舟暂时略过了这条信息,继续往下看文献。

【这种方法的优点是设备简单、成本低,能在大气中合成金刚石,生长速度快(60~150um/h),有利于大面积和复杂形状样品表面上金刚石的沉积。】

【其缺点是:沉积的金刚石薄膜具有不均匀的微观结构,薄膜常含非金刚石碳等不纯物,由于火焰的热梯度,易使衬底发生弯曲变形,并在薄膜中产生较大的热应力。】

“优缺点很明显的一种方法。”陈舟点评道。

(本章完)